نهشت بخار شیمیایی

پولیش بخار (به انگلیسی:vapor polishing) روشی برای کاهش زبری سطح یا بهبود وضوح است. به‌طور معمول، یک جز در معرض بخار شیمیایی است که باعث جریان سطح می‌شود در نتیجه سطح آن بهبود می‌یابد. این روش پولیش اغلب برای بازگرداندن مواد شفاف به کیفیت نوری پس از ماشین کاری استفاده می‌شود. پلاستیک‌هایی که به خوبی به پولیش بخار واکنش می‌دهند، پلی کربنات، اکریلیک ، پلی سولفون ، PEI و ABS هستند.

لایه‌های متناوب دو نیمه رسانای مختلف که ساختار ناهمگون کوانتومی را تشکیل می‌دهند، ممکن است با استفاده از روش‌های مختلفی مثل برآرایی باریکه مولکولی (MBE) یا برآرایی بخار فلز-آلی (MOVPE) که به لایه نشانی بخار شیمیایی فلز-آلی (MOCVD) نیز شهرت دارد، به یک زیرلایه رشد پیدا کنند.

مزایای مخلوط کردن پرتو یونی به عنوان روشی برای سنتز نسبت به روش‌های سنتی کاشت می‌تواند شامل توانایی این فرآیند برای تولید مواد با غلظت سولوت بالا با استفاده از مقادیر کمتری از تابش باشد، و کنترل بهتر تغییر فاصله باند و پخش بین لایه‌ها. هزینه IM نیز کمتر از سایر روش‌های آماده‌سازی فیلم بر روی زیرساخت‌ها مانند رسوب‌گذاری بخار شیمیایی (CVD) و epitaxy پرتو مولکولی (MBE) است.

سلول خورشیدی منعطف به عنوان فناوری تحقیقاتی به روش رسوب بخار شیمیایی روی یک لایه منعطف مثل کاغذ برای اولین بار در موسسه فناوری ماساچوست ساخته شده‌است. در تهیه این سلول گروهی از داشمندان موسسه فناوری ماساچوست با حمایت از سازمان ملی علوم همکاری داشته‌اند.

امروزه، تقریباً ۸۵٪ از ابزارهای کاربیدی، توسط فرایند انباشت بخار شیمیایی (CVD) پوشش داده می‌شوند.

ترکیبی از تیتانیوم و سلنیوم تحت جو آرگون حرارت داده می‌شود تا نمونه اولیه تولید شود. محصول خام معمولاً با انتقال بخار شیمیایی با استفاده از ید به عنوان عامل انتقال خالص می‌شود.

پوشش دهی به روش فلز بخار شده را می‌توان به دو روش عمده تقسیم کرد: انباشت بخار فیزیکی (PVD) و انباشت بخار شیمیایی (CVD). عبارت PVD به گروهی از فرایندها گفته می‌شود که در آن ماده انباشت شده به صورت فیزیکی بر روی سطح نشانده می‌شود. فلزی کردن در خلأ (Vacuum metallizing)، اسپاترینگ (sputtering) و پوشش دهی یونی (Ion Plating) از جمله فرایندهای اصلی به روش PVD هستند. همه این فرایندها در نوعی خلاء انجام می‌شوند و در همگی، قطعه کار باید به گونه ای قرار بگیرد که شلیک ذرات به صورت مستقیم بر روی تمام سطوح مورد نظر امکان‌پذیر باشد. در فرایندهای CVD اما، انباشت مواد بر روی سطح به صورت شیمیایی رخ می‌دهد و معمولاً به دماهای خیلی بالاتری نیاز است. قطعات ساخته شده از فولادهای ابزاری که تحت عملیات CVD قرار می‌گیرند ممکن است به عملیات حرارتی مجدد نیاز داشته باشند و این در حالی است که اکثر فرایندهای PDV را می‌توان در دماهایی کمتر از دمای برگشت مواد انجام داد.